Películas de Ta-C (carbono amorfo tetraédrico)

Definición:
Ta-C (carbono amorfo tetraédrico) representa la categoría de mayor rendimiento dentro de la familia DLC. Su característica definitoria es un contenido de enlaces de carbono sp³ extremadamente alto (normalmente superior al 80%), lo que da como resultado una dureza y una resistencia al desgaste muy superiores a los recubrimientos DLC convencionales.

Al igual que el DLC, el Ta-C no es una tecnología PVD independiente paralela a la pulverización catódica con magnetrón o la deposición por arco catódico, sino más bien un material de película delgada específico producido a través de una o más tecnologías de deposición avanzadas.

Tecnologías de deposición:
Requiere técnicas de deposición altamente ionizadas y de alta energía. La deposición por arco láser es actualmente uno de los métodos industriales más exitosos y ampliamente adoptados.

Características:
Dureza extremadamente alta (hasta 70 GPa o 7000 HV), coeficiente de fricción ultrabajo (por debajo de 0,01 con lubricación), resistencia al desgaste excepcional y temperatura de deposición extremadamente baja (<100°C), lo que permite el recubrimiento sobre sustratos plásticos.

Aplicaciones:
Se utiliza en herramientas de corte de alto rendimiento (especialmente para corte en seco), moldes de precisión, cojinetes sin aceite, sistemas de transmisión de engranajes y componentes mecánicos de precisión que requieren una resistencia extrema al desgaste.

Desarrollo avanzado:
Las direcciones de investigación actuales incluyen lograr recubrimientos casi libres de defectos a través de sistemas de filtrado de plasma de próxima generación, transferir la superlubricidad de la investigación de laboratorio a aplicaciones de ingeniería reales y combinar Ta-C con lubricantes sólidos como MoS₂ para soportar condiciones operativas aún más duras.