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Recubrimiento por evaporación

Sistemas de recubrimiento al vacío de alto rendimiento

Principio:
En condiciones de vacío, los materiales fuente se vaporizan mediante métodos de calentamiento como calentamiento por resistencia, bombardeo con haz de electrones o calentamiento por láser. Los átomos o moléculas vaporizados viajan linealmente a la superficie del sustrato y se condensan formando una película delgada.



Características:

  • Ventajas: Equipo y proceso relativamente simples, velocidad de deposición rápida y alta pureza de la película. 
  • Desventajas: Adhesión más débil al recubrimiento, cobertura deficiente de los escalones, inadecuado para piezas de trabajo de formas complejas y propenso a la segregación de la composición de la aleación. 


Aplicaciones:

  • Recubrimientos ópticos: Producción de películas ópticas de alto rendimiento como filtros y recubrimientos antirreflectantes. 
  • Embalaje y decoración: Recubrimiento de aluminio o metal sobre papel de embalaje de alimentos y productos plásticos para protección de barreras y efectos decorativos. 
  • Industria Electrónica: Fabricación de paneles OLED, electrodos y componentes relacionados. 
  • Desarrollo avanzado: La tecnología de evaporación por haz de electrones es muy madura y ofrece una alta densidad de energía adecuada para evaporar materiales de alto punto de fusión. Las tendencias actuales se centran en sistemas multifuncionales y totalmente automatizados que integran múltiples tecnologías de deposición.
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