Principio de funcionamiento de la tecnología de recubrimiento al vacío

1. Preparación del ambiente al vacío

   El aire dentro de la cámara sellada se bombea para formar una condición de alto vacío, lo que evita que los materiales objetivo reaccionen con el oxígeno/nitrógeno del aire ambiente y garantiza la pureza de la película depositada.
2. Fuente Material Vaporización/Atomización

   Basado en diferentes rutas técnicas (PVD/CVD):

• PVD (deposición física de vapor, convencional para piezas móviles): los objetivos de recubrimiento sólido se excitan mediante alta temperatura, bombardeo iónico o descarga de arco para evaporarse en partículas atómicas/moleculares;
• CVD: El gas de materia prima sufre una descomposición química para generar partículas de recubrimiento.

1. Deposición sobre la superficie del sustrato
   Las partículas de recubrimiento vaporizadas vuelan directamente en el espacio de vacío, se adhieren y se apilan gradualmente sobre la superficie de la pieza de trabajo limpia (sustrato), formando una capa de recubrimiento funcional delgada, densa y uniforme después de una acumulación continua.

Suplemento para el escenario de recubrimiento de su teléfono móvil